Mems加工工藝和微納加工大體上都是一樣的，只是表述不一樣而已，MEMS即是微機(jī)械電子系統(tǒng)，大多時(shí)候等同于微納系統(tǒng)是根據(jù)產(chǎn)品需要，在各類襯底（硅襯底，玻璃襯底，石英襯底，藍(lán)寶石襯底等等）制作微米級(jí)微型結(jié)構(gòu)的加工工藝。微納傳感器加工工藝制作的微型結(jié)構(gòu)主要是作為各...

目前微納制造領(lǐng)域較常用的一種微細(xì)加工技術(shù)是LIGA。這項(xiàng)技術(shù)由于可加工尺寸小、精度高，適合加工半導(dǎo)體材料，因而在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中得到普遍的應(yīng)用，其較基礎(chǔ)的中心技術(shù)是光刻，即曝光和刻蝕工藝。隨著LIGA技術(shù)的發(fā)展，人們開發(fā)出了比較多種不同的曝光、刻蝕工藝，以滿足不同...

21世紀(jì)，人們?nèi)詴?huì)不斷追求條件更好且可負(fù)擔(dān)的醫(yī)療保健服務(wù)、更高的生活品質(zhì)和質(zhì)量更好的日用消費(fèi)品，并盡力應(yīng)對(duì)由能源成本上漲和資源枯竭所帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn)等“巨大挑戰(zhàn)”。它們也是采用創(chuàng)新體系的商品擴(kuò)大市場(chǎng)的推動(dòng)力。微納制造技術(shù)過(guò)去和現(xiàn)在一直都被認(rèn)為在解決上述挑戰(zhàn)方面大有用...

眾所周知，微納米技術(shù)是我國(guó)貫徹落實(shí)“中國(guó)制造2025”和“中國(guó)創(chuàng)新2030”的重要舉措與中心技術(shù)需求，也是促進(jìn)制造業(yè)高級(jí)化、綠色化、智能化的重要基礎(chǔ)。基于物體微米、納米尺度獨(dú)特的物理和化學(xué)特性，研制新材料、新工藝、新器件的微納制造技術(shù)，已經(jīng)成為戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)中...

微納加工是指在微米和納米尺度下進(jìn)行的加工工藝，主要包括微米加工和納米加工兩個(gè)方面。微米加工是指在微米尺度下進(jìn)行的加工，通常采用光刻、薄膜沉積、離子注入等技術(shù)；納米加工是指在納米尺度下進(jìn)行的加工，通常采用掃描探針顯微鏡、電子束曝光、原子力顯微鏡等技術(shù)。微納加工的...

微納加工技術(shù)還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：微納加工與傳統(tǒng)加工技術(shù)在加工尺寸、加工精度、加工速度、加工成本等方面存在著明顯的區(qū)別。微納加工技術(shù)具有高度集成化、高度可控性、高度可重復(fù)性和高度靈活性等特點(diǎn)，可以實(shí)現(xiàn)微米級(jí)別和納米級(jí)別的加工，從而在微納器件、微納傳感器、納米材料...

半導(dǎo)體技術(shù)的演進(jìn)，除了改善性能如速度、能量的消耗與可靠性外，另一重點(diǎn)就是降低其制作成本。降低成本的方式，除了改良制作方法，包括制作流程與采用的設(shè)備外，如果能在硅芯片的單位面積內(nèi)產(chǎn)出更多的 IC，成本也會(huì)下降。所以半導(dǎo)體技術(shù)的一個(gè)非常重要的發(fā)展趨勢(shì)，就是把晶體管...

半導(dǎo)體器件加工是指將半導(dǎo)體材料加工成具有特定功能的器件的過(guò)程。它是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的一環(huán)，涉及到多個(gè)步驟和工藝。下面將詳細(xì)介紹半導(dǎo)體器件加工的步驟。蝕刻：蝕刻是將光刻圖案轉(zhuǎn)移到晶圓上的關(guān)鍵步驟。蝕刻是利用化學(xué)反應(yīng)將不需要的材料從晶圓表面去除的過(guò)程。常用的蝕...

在光刻圖案化工藝中，需要優(yōu)先將光刻膠涂在硅片上形成一層薄膜。接著在復(fù)雜的曝光裝置中，光線通過(guò)一個(gè)具有特定圖案的掩模投射到光刻膠上。曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學(xué)變化，在隨后的化學(xué)顯影過(guò)程中被去除。較后掩模的圖案就被轉(zhuǎn)移到了光刻膠膜上。而在隨后的蝕刻或離子注入工藝中，...

半導(dǎo)體技術(shù)快速發(fā)展：盡管有種種挑戰(zhàn)，半導(dǎo)體技術(shù)還是不斷地往前進(jìn)步。分析其主要原因，總括來(lái)說(shuō)有下列幾項(xiàng)。先天上，硅這個(gè)元素和相關(guān)的化合物性質(zhì)非常好，包括物理、化學(xué)及電方面的特性。利用硅及相關(guān)材料組成的所謂金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效晶體管，做為開關(guān)組件非常好用。此外，因...

半導(dǎo)體器件加工是指將半導(dǎo)體材料加工成具有特定功能的器件的過(guò)程。它是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的一環(huán)，涉及到多個(gè)步驟和工藝。下面將詳細(xì)介紹半導(dǎo)體器件加工的步驟。金屬化：金屬化是將金屬電極連接到半導(dǎo)體器件上的過(guò)程。金屬化可以通過(guò)蒸鍍、濺射、電鍍等方法實(shí)現(xiàn)。金屬化的目的是...

半導(dǎo)體制程是一項(xiàng)復(fù)雜的制作流程，先進(jìn)的 IC 所需要的制作程序達(dá)一千個(gè)以上的步驟。這些步驟先依不同的功能組合成小的單元，稱為單元制程，如蝕刻、微影與薄膜制程；幾個(gè)單元制程組成具有特定功能的模塊制程，如隔絕制程模塊、接觸窗制程模塊或平坦化制程模塊等；然后再組合這...

半導(dǎo)體技術(shù)快速發(fā)展：因?yàn)樾枨罅看?，自然吸引大量的人才與資源投入新技術(shù)與產(chǎn)品的研發(fā)。產(chǎn)業(yè)龐大，分工也越來(lái)越細(xì)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)可分成幾個(gè)次領(lǐng)域，每個(gè)次領(lǐng)域也都非常龐大，譬如IC設(shè)計(jì)、光罩制作、半導(dǎo)體制造、封裝與測(cè)試等。其它配合產(chǎn)業(yè)還包括半導(dǎo)體設(shè)備、半導(dǎo)體原料等，可說(shuō)是...

半導(dǎo)體技術(shù)進(jìn)入納米時(shí)代后，除了水平方向尺寸的微縮造成對(duì)微影技術(shù)的嚴(yán)苛要求外，在垂直方向的要求也同樣地嚴(yán)格。一些薄膜的厚度都是1~2納米，而且在整片上的誤差小于5%。這相當(dāng)于在100個(gè)足球場(chǎng)的面積上要很均勻地鋪上一層約1公分厚的泥土，而且誤差要控制在0.05公分...

在1874年，德國(guó)的布勞恩觀察到某些硫化物的電導(dǎo)與所加電場(chǎng)的方向有關(guān)，即它的導(dǎo)電有方向性，在它兩端加一個(gè)正向電壓，它是導(dǎo)通的；如果把電壓極性反過(guò)來(lái)，它就不導(dǎo)電，這就是半導(dǎo)體的整流效應(yīng)，也是半導(dǎo)體所特有的第四種特性。同年，舒斯特又發(fā)現(xiàn)了銅與氧化銅的整流效應(yīng)。半導(dǎo)...

半導(dǎo)體技術(shù)快速發(fā)展：半導(dǎo)體技術(shù)已經(jīng)從微米進(jìn)步到納米尺度，微電子已經(jīng)被納米電子所取代。半導(dǎo)體的納米技術(shù)可以象征以下幾層意義：它是單獨(dú)由上而下，采用微縮方式的納米技術(shù)；雖然沒有變革性或戲劇性的突破，但整個(gè)過(guò)程可以說(shuō)就是一個(gè)不斷進(jìn)步的歷程，這種動(dòng)力預(yù)期還會(huì)持續(xù)一、二...

半導(dǎo)體技術(shù)很大的應(yīng)用是集成電路（IC），舉凡計(jì)算機(jī)、手機(jī)、各種電器與信息產(chǎn)品中，一定有 IC 存在，它們被用來(lái)發(fā)揮各式各樣的控制功能，有如人體中的大腦與神經(jīng)。如果把計(jì)算機(jī)打開，除了一些線路外，還會(huì)看到好幾個(gè)線路板，每個(gè)板子上都有一些大小與形狀不同的黑色小方塊，...

在微納加工過(guò)程中，有許多因素會(huì)影響加工質(zhì)量和精度，下面將從這些方面詳細(xì)介紹如何保證微納加工的質(zhì)量和精度。質(zhì)量檢測(cè)：質(zhì)量檢測(cè)是保證微納加工質(zhì)量和精度的重要手段。質(zhì)量檢測(cè)可以通過(guò)光學(xué)顯微鏡、掃描電子顯微鏡等設(shè)備進(jìn)行，以檢測(cè)加工件的形貌、尺寸、表面粗糙度等參數(shù)。同時(shí)...

研究應(yīng)著眼于開發(fā)一種新型的可配置、可升級(jí)的微納制造平臺(tái)和系統(tǒng)，以降低大批量或是小規(guī)模定制產(chǎn)品的生產(chǎn)成本。新一代微納制造系統(tǒng)應(yīng)滿足下述要求：（1）能生產(chǎn)多種多樣高度復(fù)雜的微納產(chǎn)品；（2）具有微納特性的組件的小型化連續(xù)生產(chǎn)；（3）為了掌握基于整個(gè)生產(chǎn)加工鏈制造的知...

微納測(cè)試與表征技術(shù)是微納加工技術(shù)的基礎(chǔ)與前提，微納測(cè)試包括在微納器件的設(shè)計(jì)、制造和系統(tǒng)集成過(guò)程中，對(duì)各種參量進(jìn)行微米/納米檢測(cè)的技術(shù)。微米測(cè)量主要服務(wù)于精密制造和微加工技術(shù)，目標(biāo)是獲得微米級(jí)測(cè)量精度，或表征微結(jié)構(gòu)的幾何、機(jī)械及力學(xué)特性；納米測(cè)量則主要服務(wù)于材料...

微納加工技術(shù)在許多領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用，下面將詳細(xì)介紹微納加工的應(yīng)用領(lǐng)域。電子器件制造：微納加工技術(shù)在電子器件制造中有著廣泛的應(yīng)用。例如，微納加工可以用于制造集成電路、傳感器、光電器件等微型電子器件。通過(guò)微納加工技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)電子器件的微型化、高集成度和高性能。...

半導(dǎo)體器件加工是一個(gè)高度精密和復(fù)雜的過(guò)程，需要嚴(yán)格的控制和精確的操作。光刻在半導(dǎo)體器件加工中的作用是什么？光刻技術(shù)在半導(dǎo)體器件加工中起著至關(guān)重要的作用。它是一種通過(guò)光照和化學(xué)反應(yīng)來(lái)制造微細(xì)結(jié)構(gòu)的方法。光刻技術(shù)的主要目的是將設(shè)計(jì)好的圖案轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體材料上，以形成...

半導(dǎo)體技術(shù)的演進(jìn)，除了改善性能如速度、能量的消耗與可靠性外，另一重點(diǎn)就是降低其制作成本。降低成本的方式，除了改良制作方法，包括制作流程與采用的設(shè)備外，如果能在硅芯片的單位面積內(nèi)產(chǎn)出更多的 IC，成本也會(huì)下降。所以半導(dǎo)體技術(shù)的一個(gè)非常重要的發(fā)展趨勢(shì)，就是把晶體管...

微納加工當(dāng)中，GaN材料的刻蝕一般采用光刻膠來(lái)做掩膜，但是刻蝕GaN和光刻膠，選擇比接近1:1，如果需要刻蝕深度超過(guò)3微米以上的都需要采用厚膠來(lái)做掩膜。對(duì)于刻蝕更深的GaN,那就需要采用氧化硅來(lái)做刻蝕的掩模，刻蝕GaN的氣體對(duì)于刻蝕氧化硅刻蝕比例可以達(dá)到8:1...

微納加工設(shè)備主要有：光刻、刻蝕、鍍膜、濕法腐蝕、絕緣層鍍膜等。微納檢測(cè)主要是表征檢測(cè)：原子力顯微鏡、掃描電鏡、掃描顯微鏡、XRD、臺(tái)階儀等。每一個(gè)設(shè)備都包含比較多具體的分類。光刻機(jī)，也被稱為曝光機(jī)，三大類:步進(jìn)式光刻機(jī)，接觸接近式光刻，電子束曝光。微納制造技術(shù)...

在過(guò)去的幾年中，全球各地的研究機(jī)構(gòu)和一些大學(xué)已開始集中研究微觀和納米尺度現(xiàn)象、器件和系統(tǒng)。雖然這一領(lǐng)域的研究產(chǎn)生了微納制造方面的先進(jìn)知識(shí)，但比較顯然，這些知識(shí)的產(chǎn)業(yè)應(yīng)用將是增強(qiáng)這些技術(shù)未來(lái)增長(zhǎng)的關(guān)鍵。雖然在這些領(lǐng)域的大規(guī)模生產(chǎn)方面已經(jīng)取得了進(jìn)步，但微納制造技術(shù)...

微納加工是一種高精度、高效率的制造方法，廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、生物醫(yī)學(xué)、納米材料等領(lǐng)域。微納加工技術(shù)包括以下幾種主要技術(shù)：等離子體刻蝕技術(shù)：等離子體刻蝕技術(shù)是一種利用等離子體對(duì)材料進(jìn)行刻蝕的技術(shù)。等離子體刻蝕技術(shù)具有高速度、高選擇性和高精度的特點(diǎn)，可以制造...

微納加工的應(yīng)用領(lǐng)域：微納加工在各個(gè)領(lǐng)域都有普遍的應(yīng)用，下面將分別介紹其在微電子、光電子、生物醫(yī)學(xué)和納米材料等領(lǐng)域的應(yīng)用情況。1.微電子領(lǐng)域：微納加工在微電子領(lǐng)域的應(yīng)用很普遍，主要用于集成電路制造、傳感器制造、光電器件制造等方面。通過(guò)微納加工技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)集成電...

半導(dǎo)體器件加工是指將半導(dǎo)體材料加工成具有特定功能的器件的過(guò)程。它是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的一環(huán)，涉及到多個(gè)步驟和工藝。下面將詳細(xì)介紹半導(dǎo)體器件加工的步驟。金屬化：金屬化是將金屬電極連接到半導(dǎo)體器件上的過(guò)程。金屬化可以通過(guò)蒸鍍、濺射、電鍍等方法實(shí)現(xiàn)。金屬化的目的是...

電子束蒸發(fā)是基于鎢絲的蒸發(fā)。大約 5 到 10 kV 的電流通過(guò)鎢絲（位于沉積區(qū)域外以避免污染）并將其加熱到發(fā)生電子熱離子發(fā)射的點(diǎn)。使用永磁體或電磁體將電子聚焦并導(dǎo)向蒸發(fā)材料（放置在坩堝中）。在電子束撞擊蒸發(fā)丸表面的過(guò)程中，其動(dòng)能轉(zhuǎn)化為熱量，釋放出高能量（每平...